鋼構造拋丸清理機操作的關鍵是要設法得到大的拋光速率，以便趕快除去磨光時發生的損害層。一起也要使拋光損害層不會影響終究調查到的安排，即不會構成假安排。前者請求運用較粗的磨料，以確保有較大的拋光速率來去掉磨光的損害層，但拋光損害層也較深；后者請求運用細的資料，使拋光損害層較淺，但拋光速率低。
解決這個對立的方法即是把拋光分為兩個期間進行。粗拋意圖是去掉磨光損害層，這一期間應具有大的拋光速率，粗拋構成的表層損害是非必須的思考，不過也應當盡可能小；其次是精拋（或稱終拋），其意圖是去掉粗拋發生的表層損害，使拋光損害減到小。拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應肯定平行并均勻地輕壓在拋光盤上，留意防止試樣飛出和因壓力太大而發生新磨痕。一起還應使試樣自轉并沿轉盤半徑方向來回移動，以防止拋光織物部分磨損太快在拋光過程中要不斷增加微粉懸浮液，使拋光織物堅持必定濕度。濕度太大會削弱拋光的磨痕效果，使試樣中硬相出現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相發生“曳尾”景象；濕度太小時，因為沖突生熱會使試樣升溫，潤滑效果減小，磨面失去光澤，乃至出現黑斑，輕合金則會拋傷外表。為了達到粗拋的意圖，請求轉盤轉速較低，不要超過600r/min；拋光時刻應當比去掉劃痕所需的時刻長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面潤滑，但黯淡無光，在顯微鏡下調查有均勻詳盡的磨痕，有待精拋消除。
精(jing)拋(pao)(pao)(pao)時(shi)轉盤速(su)度(du)可適當進步，拋(pao)(pao)(pao)光時(shi)刻以(yi)拋(pao)(pao)(pao)掉粗拋(pao)(pao)(pao)的(de)(de)損害(hai)層為(wei)宜。精(jing)拋(pao)(pao)(pao)后磨面(mian)亮堂(tang)如鏡，在(zai)顯(xian)微鏡明視(shi)場條件下看不到劃痕，但在(zai)相襯照(zhao)明條件下則(ze)仍(reng)可見到磨痕。拋(pao)(pao)(pao)光機拋(pao)(pao)(pao)光質量的(de)(de)好壞嚴重影響試(shi)樣的(de)(de)安排構造，已逐漸導(dao)致有關專家的(de)(de)注(zhu)重。國內(nei)外在(zai)拋(pao)(pao)(pao)光機的(de)(de)性能(neng)上作了大量的(de)(de)研究工作，研究出不少新機型、新一代的(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)光設備，正由本來的(de)(de)手動操作開展變(bian)成各(ge)式各(ge)樣的(de)(de)半自(zi)動及全自(zi)動拋(pao)(pao)(pao)光機。
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